站内搜索 |
您当前的位置:首页 » 欢迎光临
公司12年来共研制开发出40余项半导体化合物材料:
碲系化合物: 碲化铜(CuTe),碲化铟( InTe),碲化锌(ZnTe),P/N三碲化二铋(Bi2Te3),二氧化碲(TeO2)... 硫系化合物: 三硫化二镓(Ga2S3),二硫化锗(GeS2),硫化锌(ZnS),硫化锡(SnS),三硫化二铟(In2S3),硫化亚铜(Cu2S)... 无氧硒及硒系化合物: 三硒化二镓(Ga2Se3),硒化亚铜(Cu2Se),三硒化二铟(In2Se3),硒化锌(ZnSe),硒化铋(Bi2Se3)... 氯系化合物: 无水三氯化铟(InCl3),无水三氯化镓(GaCl3),无水氯化亚铟(InCl)... 氧系化合物: 4N-5N三氧化二镓(Ga2O3),4N-5N氧化锌(ZnO),5N-6N 三氧化二铟(In2O3),5N 三氧化二铋(Bi2O3),4N-5N 三氧化二锑(Sb2O3)... 铜铟镓硒(CIGS)系列材料. 靶材:氧化锌靶,氧化锌铝靶,铜铟镓硒靶,三硒化二铟靶,硒化亚铜靶材... 公司现有工艺及设备: 1,电解装置4套:回收电解铜,电解铅锌矿的阳极泥;高纯铟的电解,特别是除去里面的杂质锡。 2,真空蒸馏装置12套:根据杂质不同的饱和蒸气压,采用真空蒸馏的方法将其去除。 3,区域熔炼炉10套。 4,单间提拉炉12套。 5,CVD 化学气相沉积设备3套。 6,PVD装置2套。 7,真空熔炼炉15套。 8,THM 移动式加热设备。 9,氯化... [详细介绍] |